-
Нет - (БАЗОВАЯ)
-
Санкции (импорт)
Запреты и ограничения, санкции Швейцарии в отношении России.
Машины и аппараты, используемые исключительно или главным образом для производства слитков, полупроводниковых пластин или устройств, электронных интегральных схем или плоских дисплеев; машины и приспособления, указанные в примечании 9(В) к данной группе; части и аксессуары
Информация на основе данных ВТО https://wto.ru/uchastnikam-ved-sanktsii
-
Санкции (импорт)
Запреты и ограничения, санкции Евросоюза в отношении России.
Оборудование, специально предназначенное для изготовления полупроводниковых приборов, интегральных схем и электронных сборок, а также систем, включающих или обладающих характеристиками такого оборудования:
Оборудование для обработки материалов для изготовления устройств и комплектующих, указанных в товарной позиции X.B.I.001.b, а именно
Оборудование для производства поликристаллического кремния и материалов, контролируемых 3C001
Оборудование, специально разработанное для очистки или обработки полупроводниковых материалов III/V и II/VI, контролируемое 3C001, 3C002, 3C003, 3C004 или 3C005,[1] за исключением кристаллических съемников, для которых см. X.B.I.001.b.1.c ниже
Кристаллические съемники и печи, а именно
Оборудование для отжига или рекристаллизации, отличное от печей с постоянной температурой, использующих высокие скорости передачи энергии, способные обрабатывать пластины со скоростью, превышающей 0, 005 м в минуту
Управляемые программой кристаллические съемники, имеющие любую из следующих характеристик
Перезаряжаемый без замены тигельного контейнера
Возможность работы при давлении выше 2, 5 x 105 Па или
Способен вытягивать кристалы диаметром более 100 мм
Магнитно усиленное напыляющее оборудование со специально разработанными интегральными замками нагрузки, способными передавать пластины в изолированной вакуумной среде
Информация на основе данных ВТО https://wto.ru/uchastnikam-ved-sanktsii
-
Санкции (импорт)
Запреты и ограничения, санкции Евросоюза в отношении России.
Маски, подложки для масок, оборудование для изготовления масок и передача изображения
Готовые маски, сетки и конструкции для них, за исключением:
Готовые маски или сетки для производства интегральных схем, не контролируемых 3A0011 или
Маски или сетки, имеющие обе следующие характеристики
Конструкция не включает в себя специальные функции для изменения предполагаемого использование с помощью производственного оборудования или программного обеспечения
Конструкция не включает в себя специальные функции для изменения предполагаемого использование с помощью производственного оборудования или программного обеспечения
Маскируйте подложки следующим образом:
Твердая поверхность (например, хром, кремний, молибден) покрыта подложками (например, стеклом, кварцем, сапфиром) для приготовления масок размерами более 125 мм х 125 мм или
Подложки, специально разработанные для рентгеновских масок
Эквипмент, кроме компьютеров общего назначения, специально разработанных для автоматизированного проектирования (САПР) полупроводниковых приборов или интегральных схем
Оборудование или машины, как показано ниже, для изготовления масок или сеток:
Фотооптические ступенчатые и повторные камеры, способные производить массивы размером более 100 мм х 100 мм, или способные производить одиночную экспозицию размером более 6 мм х 6 мм в плоскости изображения (т.е. фокальной) или способные производить линию шириной менее 2, 5 микрометра в фоторезисте на подложке
Оборудование для изготовления масок или сеток с использованием ионной или лазерной лучевой литографии, способной производить линии шириной менее 2, 5 микрометров или
Оборудование или держатели для изменения масок или сеток или добавления пеллик для устранения дефектов
Оборудование Stored program controlled для осмотра масок, сеток или пелликул с
Разрешение 0, 25 мкм или тоньше и
Точность 0, 75 мкм или тоньше на расстоянии в одной или двух координатах 63, 5 мм и более
Выравнивание и экспонирование оборудования для производства пластин с использованием фотооптических или рентгеновских методов, например, литографического оборудования, включая как проекционное оборудование для передачи изображений, так и step и repeat (прямой шаг на пластину) или ступенчатое и сканирующее (сканерное) оборудование, способное выполнять любую из следующих функций:
Изготовление рисунка размером менее 2, 5 мкм
Выравнивание с точностью более ± 0, 25 мкм (3 сигма)
Межмашинное наложение не лучше ± 0, 3 мкм или
Длина волны источника света короче 400 нм
Электронно-лучевая, ионо-лучевая или рентгеновская аппаратура для проекционного переноса изображения, способная производить рисунки менее 2, 5 мкм
Оборудование, использующее лазеры для прямой записи на пластины, способное производить узоры размером менее 2, 5 мкм.
Информация на основе данных ВТО https://wto.ru/uchastnikam-ved-sanktsii
-
Санкции (импорт)
Запреты и ограничения, санкции Евросоюза в отношении России.
Электронно-лучевые системы, специально разработанные или модифицированные для изготовления масок или обработки полупроводниковых устройств, имеющие любую из следующих характеристик
Электростатическое отклонение пучка
Профилированный, негауссовский балочный профиль
Коэффициент цифро-аналогового преобразования, превышающий 3 МГц
Точность преобразования цифро-аналогового, превышающая 12 бит или
Точность управления обратной связью между целевым и лучевым микрометр или тоньше.
Информация на основе данных ВТО https://wto.ru/uchastnikam-ved-sanktsii